Le dépôt de couches atomiques réinventé par le LMGP
Thématique : Transverses – Matériaux et procédés pour l’énergie
Parution :13/04/2021
La technique de dépôt de couches atomiques par SALD utilisée notamment pour les énergies renouvelables, a été remise au goût du jour par une équipe de chercheurs du LMGP grâce à l’impression 3D.
Cette technique très utilisée dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs met en œuvre deux produits chimiques appelés précurseurs (ou "réactifs"), lesquels réagissent avec la surface d'un matériau de manière séquentielle. Un film mince est ainsi lentement déposé par exposition répétée à des précurseurs distincts.
Les chercheurs du LMGP*, laboratoire membre du Carnot Energies du futur, travaillent sur le sujet depuis plusieurs années maintenant. Ils ont notamment travaillé sur l'ALD spatiale à partir d’un concept initialement développé par Kodak, qu’ils ont modifié pour la rendre plus polyvalente en ayant l'idée ingénieuse d'utiliser la technique de l'impression 3D en modifiant la tête d'injection des précurseurs en la miniaturisant pour la rendre plus maniable. Cette technique permet d'en modifier le design très facilement explique David Muñoz-Rojas, chercheur CNRS au LMGP qui est à l'initiative de cette démarche.
Cette technique permet de réduire le coût et le temps de fabrication mais également d'obtenir des formes et des tailles de dépôt ajustables selon les besoins.
Cette approche a été brevetée (CNRS), et retient déjà l’attention des industriels.
*CNRS, Grenoble INP